Бөөний MoCu Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрээсийг захиалгаар хийсэн үйлдвэрлэгч ба нийлүүлэгч |Баян

Молибден Зэс

MoCu Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрэх захиалгаар хийсэн Онцлох зураг

Товч тодорхойлолт:

Ангилал	Хайлш цацах зорилт
Химийн томъёо	MoCu
Найрлага	Молибден Зэс
Цэвэр байдал	99.9%，99.95%，99.99%
Хэлбэр	Хавтан, баганын зорилт, нуман катод, захиалгаар хийсэн
Үйлдвэрлэлийн үйл явц	PM
Боломжтой хэмжээ	L≤200мм, В≤200мм

Бидэн рүү имэйл илгээнэ үү

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

Молибден Зэс цацах зорилтыг нэвчилтээр шингэлэх аргаар үйлдвэрлэдэг: Молибдений нунтагыг шингэлж хагас боловсруулсан бүтээгдэхүүн болгон хувиргаж, дараа нь богино долгионы тусламжтайгаар усан уусмалын стратегитай хослуулдаг.Молибден Зэсийн хайлш нь гайхалтай физик, механик шинж чанартай: цахилгаан ба дулаан дамжуулалт хангалттай, дулааны тэлэлтийн бага ба тохируулгатай коэффициент, элэгдэлд тэсвэртэй, өндөр температурт тэсвэртэй.

Зохиолууд (%)	Cu	Mo	Бохирдол (%)
MoCu10	10±2	Тэнцвэр	≤0.1
MoCu15	15±3	Тэнцвэр	≤0.1
MoCu20	20±3	Тэнцвэр	≤0.1
MoCu25	25±3	Тэнцвэр	≤0.1
MoCu40	40±5	Тэнцвэр	≤0.1

Rich Special Materials нь шүрших зориулалтын үйлдвэрлэлийн чиглэлээр мэргэшсэн бөгөөд хэрэглэгчийн техникийн дагуу молибдений зэс цацах материалыг үйлдвэрлэх боломжтой.Дэлгэрэнгүй мэдээлэл авахыг хүсвэл бидэнтэй холбогдоно уу.

Өмнөх: MoNi Sputtering зорилтот өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрэх захиалгаар хийсэн

Дараачийн: NbTi Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрэх захиалгаар хийсэн