Ард түмний амьжиргааны түвшин дээшилж, шинжлэх ухаан, технологи тасралтгүй хөгжихийн хэрээр элэгдэлд тэсвэртэй, зэврэлтэнд тэсвэртэй, өндөр температурт тэсвэртэй гоёл чимэглэлийн бүрэх бүтээгдэхүүний гүйцэтгэлд тавигдах шаардлага улам бүр нэмэгдсээр байна.Мэдээжийн хэрэг, бүрэх нь эдгээр объектын өнгийг сайхан болгож чадна.Дараа нь цахилгаанаар бүрэх зорилтот болон цацах зорилтуудын хооронд ямар ялгаа байдаг вэ?RSM-ийн Технологийн хэлтсийн мэргэжилтнүүд танд үүнийг тайлбарлахыг зөвшөөрнө үү.
Цахилгаанаар бүрэх зорилт
Цахилгаанаар бүрэх зарчим нь зэсийг электролитийн аргаар цэвэршүүлэх зарчимтай нийцдэг.Цахилгаанаар бүрэх үед бүрэх давхаргын металл ионуудыг агуулсан электролитийг бүрэх уусмал бэлтгэхэд ашигладаг;Бүрхэх металл бүтээгдэхүүнийг бүрэх уусмалд дүрж, тогтмол гүйдлийн тэжээлийн сөрөг электродтой катод болгон холбох;Бүрсэн металыг анод болгон ашигладаг бөгөөд тогтмол гүйдлийн тэжээлийн эерэг электродтой холбодог.Бага хүчдэлийн тогтмол гүйдлийг хэрэглэх үед анодын металл уусмалд уусч катион болж катод руу шилждэг.Эдгээр ионууд нь катод дээр электрон авч, металл болж хувирдаг бөгөөд энэ нь бүрэх металл бүтээгдэхүүн дээр бүрхэгдсэн байдаг.
Sputtering Target
Уг зарчим нь голчлон зорилтот гадаргуу дээр аргон ионыг бөмбөгдөхийн тулд гэрэлтдэг ялгадасыг ашиглах явдал бөгөөд байны атомуудыг гаргаж, субстратын гадаргуу дээр байрлуулж, нимгэн хальс үүсгэдэг.Шүршсэн хальсны шинж чанар, жигд байдал нь уурын давхаргаас илүү сайн боловч тунаалтын хурд нь уурын давхаргаас хамаагүй удаан байдаг.Шинэ шүршигч төхөөрөмж нь байны эргэн тойронд аргоны иончлолыг хурдасгахын тулд электронуудыг эргүүлэхэд хүчтэй соронзыг бараг ашигладаг бөгөөд энэ нь зорилтот ба аргон ионуудын хооронд мөргөлдөх магадлалыг нэмэгдүүлж, цацах хурдыг сайжруулдаг.Металл бүрэх хальсны ихэнх нь тогтмол гүйдлийн цацралт байдаг бол дамжуулагч бус керамик соронзон материалууд нь RF-ийн хувьсах гүйдэлтэй байдаг.Үндсэн зарчим бол зорилтот гадаргууг аргон ионоор бөмбөгдөхийн тулд вакуум дахь гэрлийн ялгадасыг ашиглах явдал юм.Цусны сийвэн дэх катионууд хурдасч, шүршиж цацагдсан материал болж сөрөг электродын гадаргуу руу гүйнэ.Энэ бөмбөгдөлт нь зорилтот материалыг нисч, субстрат дээр буулгаж, нимгэн хальс үүсгэдэг.
Зорилтот материалыг сонгох шалгуур
(1) Зорилтот хальс үүссэний дараа механик бат бөх, химийн тогтвортой байдал сайн байх ёстой;
(2) Реактив цацах хальсны хальс нь урвалын хийтэй нийлмэл хальс үүсгэхэд хялбар байх ёстой;
(3) Зорилтот болон субстратыг сайтар угсарсан байх ёстой, эс тэгвээс субстраттай сайн холбох хүч бүхий хальс материалыг авч, эхлээд доод хальсыг цацаж, дараа нь шаардлагатай хальсны давхаргыг бэлтгэнэ;
(4) Киноны гүйцэтгэлийн шаардлагыг хангах үүднээс зорилтот ба субстратын дулааны тэлэлтийн коэффициентийн ялгаа бага байх тусам цацагдсан хальсны дулааны стрессийн нөлөөллийг багасгахын тулд сайн;
(5) Киноны хэрэглээ, гүйцэтгэлийн шаардлагын дагуу ашигласан зорилго нь цэвэршилт, хольцын агууламж, бүрэлдэхүүн хэсгийн жигд байдал, боловсруулалтын нарийвчлал гэх мэт техникийн шаардлагыг хангасан байх ёстой.
Шуудангийн цаг: 2022 оны 8-р сарын 12-ны хооронд