Галд тэсвэртэй гянт болдын металл ба гянтболдын хайлш нь өндөр температурт тогтвортой, электрон шилжилтэд тэсвэртэй, электрон ялгаруулах коэффициент өндөртэй зэрэг давуу талтай.Өндөр цэвэршилттэй гянт болд ба вольфрамын хайлшийг голчлон хаалганы электрод, холболтын утас, хагас дамжуулагч нэгдсэн хэлхээний тархалтын саадтай давхаргыг үйлдвэрлэхэд ашигладаг.Эдгээр нь материалын цэвэршилт, хольцын элементийн агууламж, нягтрал, ширхэгийн хэмжээ, нэг төрлийн ширхэгийн бүтэц зэрэгт маш өндөр шаардлага тавьдаг.Өндөр цэвэршилттэй вольфрамын зорилтот бэлдмэлийг бэлтгэхэд нөлөөлж буй хүчин зүйлсийг авч үзьеby Rich Special Material Co.,Ltd.
I. Шинжлэх температурын нөлөө
Гянтболдын зорилтот үр хөврөл үүсэх процесс нь ихэвчлэн хүйтэн изостатик даралтаар хийгддэг.Гянтболдын үр тариа нь агломержуулах явцад ургах болно.Гянт болдын ширхэгийн өсөлт нь болорын хил хоорондын зайг дүүргэх бөгөөд ингэснээр вольфрамын зорилтот нягтыг нэмэгдүүлнэ.Шингэрүүлэх хугацаа нэмэгдэхийн хэрээр вольфрамын зорилтот нягтын өсөлт аажмаар удааширдаг.Гол шалтгаан нь вольфрамын зорилтот материалын чанар хэд хэдэн агломержуулалтын дараа өөрчлөгдөөгүй юм.Кристалын хил дэх ихэнх хоосон зайг вольфрамын талстаар дүүргэдэг тул синтерлэх процесс бүрийн дараа вольфрамын зорилтот хэмжээ нь маш бага байдаг бөгөөд энэ нь вольфрамын зорилтот нягтыг нэмэгдүүлэх хязгаарлагдмал орон зайд хүргэдэг.Цутгах явцад том гянтболдын мөхлөгүүд хоосон зайд дүүрдэг бөгөөд ингэснээр жижиг хэмжээтэй илүү нягт объект үүсдэг.
2. Үр нөлөөhХадгалах хугацаа
Аглууралтын ижил температурт гянтболдын зорилтот материалын нягтрал нь агшилтын хугацаа нэмэгдэх тусам сайжирдаг.Цутгах хугацаа нэмэгдэхийн хэрээр вольфрамын ширхэгийн хэмжээ нэмэгдэж, агшилтын хугацааг сунгах тусам үр тарианы өсөлтийн хүчин зүйл аажмаар удааширдаг.Энэ нь агломерын хугацааг нэмэгдүүлэх нь вольфрамын зорилтот гүйцэтгэлийг сайжруулж болохыг харуулж байна.
3. Зорилтот P дээр өнхрөх нөлөөгүйцэтгэл
Гянтболдын зорилтот материалын нягтыг сайжруулах, вольфрамын зорилтот материалын боловсруулалтын бүтцийг олж авахын тулд вольфрамын зорилтот материалыг дунд температурт өнхрүүлэх ажлыг дахин талстжих температураас доогуур хийх ёстой.Зорилтот хоосон зайны өнхрөх температур өндөр байх үед зорилтот хоосон зайны ширхэгийн бүтэц нь зузаан, харин зорилтот хоосон зай нь илүү нарийн байдаг.Халуун цувих гарц 95%-иас дээш байх үед .Анхны үр тариа эсвэл өнхрөх температурын өөр өөр синтерингээс үүдэлтэй шилэн бүтцийн ялгаа арилах боловч зорилтот дотор илүү нэгэн төрлийн шилэн бүтэц үүсэх тул дулаан өнхрөх боловсруулалтын хурд өндөр байх тусам зорилтот гүйцэтгэл сайжирна.
Шуудангийн цаг: 2022 оны 5-р сарын 05-ны хооронд