Бүрсэн зорилтот нимгэн хальс нь тусгай материалын хэлбэр юм.Зузааны тодорхой чиглэлд масштаб нь маш бага бөгөөд энэ нь микроскопоор хэмжигдэх хэмжигдэхүүн юм.Нэмж дурдахад, хальсны зузааны гадаад төрх, интерфэйсээс шалтгаалан материалын тасралтгүй байдал дуусдаг бөгөөд энэ нь киноны өгөгдөл болон зорилтот өгөгдөл нь өөр өөр нийтлэг шинж чанартай байдаг. Мөн зорилго нь голчлон магнетрон цацах бүрээсийг ашиглах явдал юм, Бээжингийн Ричматийн редактор биднийг ойлгох болно. шүршигч бүрэх зарчим, ур чадвар.
一、Шүршрүүлэх бүрэх зарчим
Шүршигч бүрэх ур чадвар нь ионы довтолгооны зорилтот дүр төрхийг ашиглах явдал бөгөөд зорилтот атомууд шүрших гэж нэрлэгддэг үзэгдлээс гардаг.Субстратын гадаргуу дээр хуримтлагдсан атомуудыг шүршигч бүрэх гэж нэрлэдэг. Ерөнхийдөө хийн ионжилт нь хийн ялгаралтаар үүсдэг бөгөөд эерэг ионууд нь цахилгаан орны нөлөөн дор катодын зорилтот хэсгийг өндөр хурдтайгаар бөмбөгдөж, атомууд эсвэл молекулуудыг цохино. катодын зорилтот ба хальсанд буулгах субстратын гадаргуу руу нисдэг. Энгийнээр хэлбэл, шүрших бүрхүүл нь ион үүсгэхийн тулд нам даралтын инертийн хийн ялгадасыг ашигладаг.
Ерөнхийдөө шүрших хальс бүрэх төхөөрөмж нь вакуум цэнэгийн камерт хоёр электродоор тоноглогдсон бөгөөд катодын зорилт нь бүрэх өгөгдлөөс бүрдэнэ.Вакуум камер нь 0.1~10Па даралттай аргон хийгээр дүүрдэг.Гялалзсан ялгадас нь 1~3кВ тогтмол гүйдлийн сөрөг өндөр хүчдэл эсвэл 13.56 мГц-ийн rf хүчдэлийн нөлөөн дор катод дээр үүсдэг. Аргон ионууд зорилтот гадаргууг бөмбөгдөж, шүршиж цацагдсан зорилтот атомуудыг субстрат дээр хуримтлуулахад хүргэдэг.
二、Цэвэрлэх ур чадварын шинж чанарууд
1、 Хурдан овоолох хурд
Өндөр хурдны магнетрон цацах электрод ба уламжлалт хоёр үе шаттай шүрших электродын ялгаа нь соронз нь байны доор байрладаг тул битүү тэгш бус соронзон орон нь байны гадаргуу дээр үүсдэг. гетероген соронзон орны.Фокусын нөлөөгөөр электронууд бага зугтдаг.Нэг төрлийн соронзон орон нь зорилтот гадаргууг тойрон эргэлдэж, нэг төрлийн соронзон оронд баригдсан хоёрдогч электронууд нь хийн молекулуудтай дахин дахин мөргөлддөг бөгөөд энэ нь хийн молекулуудын өндөр хувиргах хурдыг сайжруулдаг. Тиймээс өндөр хурдтай магнетрон цацах нь бага эрчим хүч зарцуулдаг боловч хамгийн тохиромжтой гадагшлуулах шинж чанар бүхий бүрэх үр ашгийг олж авах боломжтой.
2、Суурийн температур бага байна
Өндөр хурдтай магнетрон шүрших, бага температурт цацах гэж нэрлэдэг.Шалтгаан нь энэ төхөөрөмж нь бие биентэйгээ шууд харьцдаг цахилгаан соронзон орны орон зайд ялгадас ашигладагтай холбоотой юм.Зорилтот гадна талд, бие биендээ тохиолддог хоёрдогч электронууд.Шулуун цахилгаан соронзон орны нөлөөгөөр энэ нь байны гадаргуугийн ойролцоо холбогдож, хийн молекулуудыг ионжуулахын тулд хийн молекулуудыг дахин дахин цохиж, дугуй гулсмал шугамаар гүйлтийн зурвасын дагуу хөдөлдөг. субстратын ойролцоох зорилтот гадаргуугаас зугтахаасаа өмнө эрчим хүч нь бараг бүрэн алдагдах хүртэл давтагддаг.Электронуудын энерги маш бага учраас байны температур хэт өндөр өсдөггүй.Энэ нь криогенжилтийг дуусгах энгийн диодын цохилтын өндөр энергийн электрон бөмбөгдөлтөөс үүдэлтэй субстратын температурын өсөлтийг эсэргүүцэхэд хангалттай юм.
3、Өргөн хүрээний мембран бүтэц
Вакуум ууршилт ба шахах хуримтлалаар олж авсан нимгэн хальсны бүтэц нь задгай биетийг сийрэгжүүлэх замаар олж авсан нимгэн хальснаас эрс ялгаатай.Гурван хэмжигдэхүүнээр үндсэндээ ижил бүтэцтэй гэж ангилагддаг ерөнхийдөө байгаа хатуу биетүүдээс ялгаатай нь хийн үе шатанд хуримтлагдсан хальсыг гетероген бүтэц гэж ангилдаг. Нимгэн хальс нь бортгон хэлбэртэй бөгөөд электрон микроскопоор сканнердаж судлах боломжтой.Киноны булчирхайлаг өсөлт нь субстратын анхны гүдгэр гадаргуу, субстратын тод хэсгүүдийн цөөн тооны сүүдэрээс үүсдэг.Гэсэн хэдий ч, баганын хэлбэр, хэмжээ нь субстратын температур, овоолсон атомуудын гадаргуугийн тархалт, хольцын атомуудын булш, субстратын гадаргуутай харьцуулахад тохиолдох атомуудын ослын өнцөг зэргээс шалтгаалж өөр өөр байдаг.Хэт их температурын хязгаарт нимгэн хальс нь ширхэглэг бүтэцтэй, өндөр нягтралтай, нарийн булчирхайлаг талстуудаас тогтдог бөгөөд энэ нь шүрших хальсны өвөрмөц бүтэц юм.
Шүрших даралт ба хальсыг овоолох хурд нь хальсны бүтцэд нөлөөлдөг.Хийн молекулууд нь субстратын гадаргуу дээрх атомуудын тархалтыг дарах нөлөөтэй байдаг тул өндөр шүрших даралтын нөлөө нь загвар дахь субстратын температурын уналтад тохиромжтой.Тиймээс нарийн ширхэгтэй ширхэгтэй сүвэрхэг хальсыг шүрших өндөр даралтаар олж авч болно.Энэхүү жижиг ширхэгтэй хальс нь тосолгооны материал, элэгдэлд тэсвэртэй, гадаргууг хатууруулах болон бусад механик хэрэглээнд тохиромжтой.
4、Бүтэцийг жигд байрлуул
Бүрэлдэхүүн хэсгүүдийн уурын даралт нь өөр өөр байдаг эсвэл халах үед ялгаатай байдаг тул вакуум ууршилтаар бүрхэхэд тохиромжтой нэгдлүүд, хольцууд, хайлшууд гэх мэт. Шүрших бүрэх арга нь атомын зорилтот гадаргууг давхаргаар давхаргаар бүрхэх явдал юм. субстратын хувьд энэ утгаараа илүү төгс кино бүтээх ур чадвар юм.Бүх төрлийн материалыг шүрших замаар үйлдвэрийн өнгөлгөөний үйлдвэрлэлд ашиглаж болно.
Шуудангийн цаг: 2022 оны 4-р сарын 29